Elektro- und Halbleitertechnik

Die hohe chemische Inertheit, Verträglichkeit gegenüber Reinstsilizium als auch elektrische Isolation und Hochtemperaturbeständigkeit prädestiniert Siliziumnitrid-Bauteile für Anwendungen in der Elektro- und Halbleitertechnik.

Deshalb dient unser Siliziumnitrid zur Herstellung von →Platten und Scheiben, die beispielsweise als Wafer-Probecards und Trägerstrukturen für die Waferbearbeitung verwendet werden.





Keramische Greifer ermöglichen das kontaminationsfreie Chargieren der Wafer.










Wir bieten unseren Kunden zudem hochfeste Isolatoren, →Abschirmplatten und →Transportrollen für →Beschichtungsanlagen sowie Wicklungsträger für Induktoren. Für hochtemperaturbeständige und -mechanisch belastbare Halbleiterbauelemente und Schaltungen kann Siliziumnitrid sogar als Substratmaterial Verwendung finden.












Weiterhin fertigt FCT →Tiegel und Tiegelkomponenten für AlN- oder SiC-Einkristallzüchtungsanlagen auf Basis refraktärer Carbide wie TaC und WC.